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聯(lián)電12nm工藝與英特爾合作順利,2027年有望投產(chǎn),性能大幅提升

   時(shí)間:2025-04-28 14:09:55 來(lái)源:ITBEAR編輯:快訊團(tuán)隊(duì) IP:北京 發(fā)表評(píng)論無(wú)障礙通道

聯(lián)華電子(UMC),又稱聯(lián)電,在其最新發(fā)布的年度報(bào)告中透露了關(guān)于其技術(shù)進(jìn)展的積極消息。報(bào)告指出,聯(lián)電與英特爾攜手開發(fā)的12納米(nm)工藝節(jié)點(diǎn)目前正處于順利的開發(fā)階段。

據(jù)聯(lián)電介紹,12nm工藝相較于其當(dāng)前的14nm工藝,在功耗、性能和面積(PPA)這三個(gè)核心指標(biāo)上均取得了顯著的提升。這一進(jìn)步使得聯(lián)電的客戶和合作伙伴對(duì)12nm工藝所蘊(yùn)含的商機(jī)充滿了期待。來(lái)自主要客戶的初期評(píng)估反饋顯示,聯(lián)電的12nm工藝在業(yè)界預(yù)計(jì)將展現(xiàn)出極強(qiáng)的競(jìng)爭(zhēng)力。

聯(lián)電預(yù)計(jì),12nm制程的工藝驗(yàn)證工作將在2026年完成,并計(jì)劃在2027年正式投入生產(chǎn)。這一時(shí)間表不僅展示了聯(lián)電在技術(shù)推進(jìn)上的穩(wěn)健步伐,也為其客戶提供了明確的時(shí)間規(guī)劃。

在先進(jìn)封裝技術(shù)方面,聯(lián)電同樣取得了不俗的進(jìn)展。公司表示,其晶圓級(jí)3D W2W(晶圓對(duì)晶圓)混合鍵合解決方案在帶寬和尺寸縮減方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)。特別是在移動(dòng)設(shè)備射頻元器件領(lǐng)域,聯(lián)電正加速推進(jìn),目標(biāo)是在本年度內(nèi)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

聯(lián)電的這一系列技術(shù)突破,不僅彰顯了其在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的深厚積累,也為未來(lái)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。隨著12nm工藝的逐步成熟和先進(jìn)封裝技術(shù)的量產(chǎn),聯(lián)電有望在半導(dǎo)體行業(yè)中繼續(xù)保持其領(lǐng)先地位。

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