在人工智能技術迅猛發展的推動下，全球半導體產業對先進制程設備的需求持續攀升。作為光刻機領域的領軍企業，ASML近期披露的交付計劃顯示，其2027年將向客戶交付共計66臺光刻設備，其中包括10臺最新型High-NA極紫外光刻機（EUV）和56臺傳統EUV光刻機。這一數據印證了市場對高端芯片制造設備的強勁需求。
據行業消息透露，英特爾與三星近期均上調了光刻設備采購規模。英特爾將High-NA EUV的訂購量從1臺增至2臺，同時傳統EUV的采購數量也由3臺提升至5臺。三星方面則將傳統EUV的訂單從5臺追加至7臺，顯示出這兩家半導體巨頭在先進制程領域的激烈競爭。值得關注的是，三星雖未調整High-NA EUV的初始訂單量，但其技術儲備動作引發市場關注。
存儲芯片領域呈現出更為突出的擴張態勢。SK海力士成為本次采購計劃的最大客戶，其獲得的傳統EUV光刻機數量達20臺，占ASML該機型年度交付量的35.7%。更引人注目的是，該公司將High-NA EUV的訂購量從1臺提升至2臺，并計劃在未來兩年內完成全部20臺傳統EUV設備的安裝調試。這些設備將專項用于高帶寬內存（HBM）及下一代存儲解決方案的研發生產。
從技術落地進度來看，英特爾仍保持著先發優勢，預計將成為全球首家在量產環節應用High-NA EUV技術的芯片制造商。但三星與SK海力士正通過加大設備投入縮小差距，尤其是SK海力士的產能擴張計劃尤為激進。據知情人士透露，為容納新增的光刻設備，該公司正在規劃建設多座專用廠房，確保有足夠的潔凈室空間支持設備安裝與工藝調試。
盡管多家芯片制造商推遲了新一代High-NA EUV技術的導入時間表，但行業分析師指出，這并未影響市場對光刻設備的長期需求。隨著人工智能、高性能計算等領域對先進制程芯片的需求爆發，全球主要半導體企業都在通過擴大設備投資鞏固技術優勢。ASML的交付數據恰恰反映了這種戰略性的產能布局，其光刻設備訂單量持續走高印證了產業升級的必然趨勢。
