國內半導體產業近日迎來重要進展，中芯國際總市值首次突破萬億元大關，引發市場廣泛關注。據交易數據顯示，該公司A股單日成交額突破100億元，股價盤中最高漲幅達7.9%，創下歷史新高。
此次股價異動與一則技術突破傳聞密切相關。有消息稱，這家半導體龍頭企業正在對國產深紫外線（DUV）光刻設備進行技術驗證，測試對象為上海初創企業宇量昇研發的浸沒式光刻機。該設備采用的技術路徑與荷蘭ASML公司的同類產品存在相似性，標志著國產高端光刻設備邁出關鍵一步。
長期以來，中芯國際的先進制程生產高度依賴進口設備。受制于美國出口管制政策，該公司從ASML采購的DUV光刻機僅限于較舊型號，這對其工藝升級構成明顯制約。業內人士指出，當前國際環境下，半導體設備國產化已成為突破技術封鎖的必由之路。
據技術團隊透露，正在測試的28納米DUV設備通過多重曝光工藝，已具備生產7納米芯片的能力。更值得關注的是，該設備在極限狀態下可嘗試5納米制程，雖然現階段良品率尚不理想，但這一突破為后續技術迭代預留了想象空間。不過專家強調，要實現更先進制程的穩定量產，仍需在光源系統、雙工作臺等核心技術領域取得突破。
市場分析認為，中芯國際市值創新高既反映了資本市場對國產半導體設備突破的期待，也體現出全球供應鏈重構背景下，中國芯片制造業的戰略價值正在持續提升。隨著國產設備驗證進程的推進，半導體產業鏈自主可控進程有望進一步加速。
