半導(dǎo)體制造領(lǐng)域迎來重大進展，臺積電宣布將在臺中市投資建設(shè)一座全新工廠，專注于14A 1.4nm工藝的量產(chǎn)。該項目涵蓋核心晶圓廠、配套水電設(shè)施及輔助建筑，總投資額預(yù)計達490億美元，創(chuàng)下公司歷史投資新高。

據(jù)技術(shù)資料顯示，臺積電14A工藝于今年4月正式對外公布，其命名、技術(shù)參數(shù)及代工服務(wù)均直接對標(biāo)英特爾14A工藝。作為N2 2nm節(jié)點后的關(guān)鍵技術(shù)突破，該工藝在性能與能效方面實現(xiàn)顯著提升：同等功耗下性能提高10%-15%，同等性能時功耗降低25%-30%，邏輯晶體管密度提升最高達23%，芯片整體密度增加最多20%。

市場定價策略顯示，14A晶圓單片報價約4.5萬美元，較N2工藝的3萬美元上漲50%。盡管價格大幅上揚，但行業(yè)分析認為，受先進制程需求驅(qū)動，該產(chǎn)品仍將保持供不應(yīng)求態(tài)勢。此前臺積電已向客戶發(fā)出通知，自2026年1月起，5nm及以下制程（包括5nm、4nm、3nm、2nm）將連續(xù)四年調(diào)漲價格，年均漲幅控制在3%-5%區(qū)間。

生產(chǎn)規(guī)劃方面，新工廠預(yù)計于2028年上半年啟動14A工藝的規(guī)模化生產(chǎn)。該節(jié)點的推出將進一步鞏固臺積電在高端芯片制造領(lǐng)域的領(lǐng)先地位，同時為人工智能、高性能計算等前沿領(lǐng)域提供更強大的技術(shù)支撐。

業(yè)內(nèi)人士指出，隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進制程邁進，臺積電此舉不僅展現(xiàn)了其技術(shù)迭代能力，更反映出市場對極紫外光刻（EUV）等尖端制造工藝的持續(xù)需求。14A工藝的商業(yè)化應(yīng)用，有望推動相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈進入新的發(fā)展周期。