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尼康發布首款1μm光刻機,2026財年面世引關注

   時間:2024-10-24 14:14:57 來源:ITBEAR編輯:快訊團隊 發表評論無障礙通道

【ITBEAR】尼康公司近日宣布,正在積極研發一款針對半導體先進封裝工藝的數字光刻機,該設備預計將在2026財年內推出。這款光刻機具備1.0微米的高分辨率,旨在滿足日益增長的先進封裝需求。

隨著AI芯片需求的不斷增加,基于玻璃面板的PLP封裝技術受到廣泛關注。尼康的新設備將半導體光刻技術與顯示產業的多透鏡組技術相結合,無需使用掩膜,而是通過SLM生成電路圖案。

尼康表示,這款新設備能夠顯著降低后端工藝的成本和時間,相較于傳統有掩膜工藝具有顯著優勢。

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