在高科技制造領域，一個令人矚目的現象是，全球范圍內唯一能夠制造EUV光刻機的廠商，是位于荷蘭的ASML公司。
回溯至2016年，EUV光刻機首次實現了量產，這一里程碑式的進展標志著半導體制造技術的巨大飛躍。然而，這并非終點，而是不斷進化的起點。EUV光刻機在隨后的歲月里，經歷了多次技術迭代，每一次都推動了制造精度的邊界。
在這些技術迭代中，一個尤為關鍵的參數——數值孔徑，成為了衡量EUV光刻機性能的重要標尺。數值孔徑不僅關乎光刻機的光線收集能力，還直接影響到其光刻的可操作性和最終產品的分辨率。
具體來說，EUV光刻機的工作原理，是基于對極紫外（EUV）光線的精密操控。光線收集得越多，光刻過程中的靈活性和精確度就越高，從而能夠制造出更小、更復雜的半導體結構。這一過程，就像是藝術家在微觀世界中進行的一場精細雕刻。
ASML公司憑借其在這一領域的深厚積累和創新精神，持續推動著EUV光刻技術的發展，為全球半導體產業的進步貢獻著不可或缺的力量。隨著技術的不斷演進，我們有理由相信，未來的半導體產品將會更加先進、更加高效。
