近期，半導(dǎo)體市場迎來復(fù)蘇跡象，這一趨勢對(duì)光刻材料行業(yè)產(chǎn)生了積極影響。根據(jù)知名研究機(jī)構(gòu)TECHCET的最新報(bào)告，預(yù)計(jì)到2025年，光刻材料市場將實(shí)現(xiàn)顯著增長，總收入預(yù)計(jì)攀升至50.6億美元（按當(dāng)前匯率計(jì)算，約合366.46億元人民幣），相較于當(dāng)前水平，增幅達(dá)到7%。

報(bào)告指出，光刻膠需求的激增是推動(dòng)這一增長的主要因素。特別是EUV（極紫外光刻）光刻膠，其需求預(yù)計(jì)將同比增長30%，展現(xiàn)出強(qiáng)勁的市場潛力。這一增長背后的邏輯在于，隨著芯片產(chǎn)量的不斷提升，特別是在邏輯芯片和DRAM芯片領(lǐng)域，先進(jìn)節(jié)點(diǎn)器件的產(chǎn)量增加，對(duì)高質(zhì)量光刻膠的需求也隨之上升。

TECHCET的數(shù)據(jù)還顯示，2024年光刻材料市場已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了1.6%的增長，總收入達(dá)到47.4億美元（約合343.28億元人民幣）。在這一年中，EUV光刻膠的表現(xiàn)尤為亮眼，同比增長高達(dá)20%。同時(shí)，輔助材料和擴(kuò)展材料市場也表現(xiàn)出穩(wěn)健的增長態(tài)勢，分別實(shí)現(xiàn)了2%的增長。

光刻材料市場的這一增長趨勢，不僅反映了半導(dǎo)體行業(yè)的整體復(fù)蘇，也揭示了技術(shù)創(chuàng)新對(duì)材料需求的推動(dòng)作用。隨著芯片制造技術(shù)的不斷進(jìn)步，對(duì)光刻材料的要求也越來越高。EUV光刻技術(shù)的廣泛應(yīng)用，就是其中的一個(gè)重要例證。這一技術(shù)需要更精細(xì)、更穩(wěn)定的光刻膠來支持，從而推動(dòng)了光刻膠市場的快速發(fā)展。

報(bào)告還提到，未來光刻材料市場的發(fā)展將受到供應(yīng)鏈本地化趨勢的影響。為了應(yīng)對(duì)全球貿(mào)易環(huán)境的變化和技術(shù)創(chuàng)新的需求，多個(gè)主要市場都在積極建設(shè)新的光刻材料生產(chǎn)設(shè)施。這些設(shè)施將致力于開發(fā)干法光刻膠沉積和納米壓印光刻等創(chuàng)新技術(shù)，以進(jìn)一步提升光刻材料的性能和降低成本。