近期，科技界的目光被蘋果公司的一項新專利所吸引。據科技媒體patentlyapple在5月28日的報道中透露，蘋果公司已成功獲得一項關于下一代Face ID技術的專利，這項技術將從現有的衍射光學元件（DOE）升級為更前沿的“超表面光學元件”（MOE）。

目前，蘋果公司的Face ID系統主要依賴于衍射光學元件（DOE），它通過生成點狀照明圖案，實現對目標區域的3D映射。這一技術雖然已相當成熟，但在追求更小體積和更高精度的今天，仍有進一步改進的空間。

傳統的結構光投影模組通常由多個光學元件組成，包括DOE和準直透鏡，這些元件共同協作以分割光束并投射出點狀圖案。盡管這些模組已經足夠小巧，能夠嵌入到智能手機中，但市場對于更小、更高效的解決方案的需求仍在不斷增長。

蘋果的新專利提出了一種創新的超表面光學元件（MOE）設計方案。這種方案將光束分割與準直功能集成到一個單一的扁平元件中，從而大大縮小了投影模組的體積，降低了生產成本，并簡化了組裝流程，減少了制造過程中的誤差。

更令人矚目的是，MOE技術還能調整投影模組的光軸傾斜角度，使其與攝像頭的視野（FOV）更好地重疊。這一設計確保了點狀圖案能夠完全覆蓋攝像頭的視野，從而提升了3D映射的精準度。設備還可以通過控制器靈活地交替激活點狀照明和泛光照明，以適應不同的使用場景。

蘋果公司的這一新專利不僅展示了其在光學技術領域的深厚積累，也預示著未來Face ID系統將迎來更加高效、精準和靈活的升級。隨著技術的不斷進步，我們可以期待蘋果公司的Face ID系統在未來為用戶帶來更加出色的使用體驗。