在荷蘭阿姆斯特丹，臺積電的一位高層近日于公司2025年技術論壇歐洲場活動中發表了一項引人關注的觀點。資深副總經理兼副聯席首席運營官張曉強指出，對于當前最尖端的制程技術，引入High NA EUV（極紫外光刻）技術并非當務之急。
張曉強詳細闡述了臺積電最新的1.4nm級別邏輯制程A14。他強調，即便沒有采用High NA EUV圖案化設備，A14制程的性能提升依然顯著。他進一步透露，臺積電的技術團隊正不斷努力，通過工藝優化來拓寬Low NA EUV技術的應用范圍。只要這一技術路徑能夠持續取得進展，臺積電認為在量產中引入成本高昂的ASML High NA EUV設備便顯得沒有必要。
張曉強還提及了業界對High NA EUV技術的整體態度。他指出，在三大先進制程廠商中，雖然有一家國際同行對High NA EUV技術表現出了最為積極的態度，但在實際生產中，這家廠商也表現出了謹慎的傾向。特別是在與臺積電A14制程相近的某個14A工藝節點上，該廠商也提供了是否使用High NA EUV技術的不同方案選擇。
這一表態不僅反映了臺積電在先進制程技術路線上的自信，也揭示了整個半導體行業在追求更高精度和更低成本之間的微妙平衡。隨著技術的不斷進步，如何在保證性能的同時，有效控制成本，成為了所有廠商必須面對的重要課題。
